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光刻

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光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術。

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    近期，英特爾一位高管拋出一個頗具爭議的觀點：未來的晶體管設計（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造對先進光刻設備，特別是ASML的極紫外（EUV）光刻機的依賴。這一論斷挑戰(zhàn)了當前先進芯片制造領域?qū)UV技術“不可或缺”的普遍認知，引發(fā)了業(yè)界的廣泛討論。
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  • 群賢畢至，共襄盛會——IWAPS 2025誠邀投稿！
    第九屆國際先進光刻技術研討會 （IWAPS 2025） IWAPS 2025? 第九屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS）將于10月14-15日在深圳隆重舉行！本次研討會由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟、中國光學學會主辦，中國科學院微電子研究所、深圳市半導體與集成電路產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（深芯盟）、南京誠芯集成電路技術研究院有限公司聯(lián)合承辦，誠邀全球業(yè)界精英共赴這場光刻技術領域的學術盛宴！國 際先進光刻技術研討會（IW
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    03/24 10:50
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